Κεφάλαιο 1: Υπόβαθρο και Απαιτήσεις 1.1 Εισαγωγή στη Ρητίνη Φαινολικού Η ρητίνη φαινολικού, επιστημονικά γνωστή ως ρητίνη φαινόλης-φορμαλδεΰδης, είναι μία από τις πρώτες βιομηχανικές συνθετικές ρητίνες που εμφανίστηκαν στον κόσμο, η οποία σχηματίζεται μέσω πολυσυμπύκνωσης φαινολικών...
Μοιράσου
1.1 Εισαγωγή στη Ρητίνη Φαινολική
Η Ρητίνη Φαινολική, επιστημονικά γνωστή ως ρητίνη φαινόλης-φορμαλδεΰδης, είναι μία από τις πρώτες βιομηχανικές συνθετικές ρητίνες που εμφανίστηκαν στον κόσμο, η οποία σχηματίζεται μέσω πολυσυμπύκνωσης φαινολικών ενώσεων και φορμαλδεΰδης υπό τη δράση καταλύτη. Λόγω της εξαιρετικής αντοχής της στη θερμότητα, της αντίστασής της στη φλόγα, της μηχανικής αντοχής και της ηλεκτρικής μόνωσης, χρησιμοποιείται ευρέως σε:
• Ηλεκτρονικά Υλικά: Φωτοαντίσταση Ρητίνη, Υπόστρωμα PCB, Ενθυλάκωση Ημιαγωγών
• Σύνθετα Υλικά: Υλικά ενισχυμένα με γυαλί, υλικά τριβής (επιβάτορες)
• Επιχρίσματα και Κολλητικά: Επιχρίσματα ανθεκτικά σε υψηλές θερμοκρασίες, κολλητικά για ξύλο
• Πυρίμακτα Υλικά: Τούβλα πυριμακτικά, μονωτικά υλικά
• Μηχανουργικά Πλαστικά: Διακόπτες ηλεκτρικοί, αυτοκινητοβιομηχανικά εξαρτήματα
1.2 Αγοραϊκή Ζήτηση για Υψηλής Καθαρότητας Ρητίνη Φαινολική
Με τη γρήγορη ανάπτυξη της βιομηχανίας ηλεκτρονικών πληροφοριών και των νέων υλικών ενέργειας, έχουν τεθεί υψηλότερες απαιτήσεις καθαρότητας για τα φαινολικά ρητίνες:
|
Τομέας εφαρμογής |
Απαίτηση Καθαρότητας |
Όρια Βασικών Προσμίξεων |
Τιμή Αγοράς (10k CNY/τόνο) |
|
Φωτοαντίσταση Ρητίνης |
≥99.5% |
Ελεύθερη Φαινόλη<500ppm |
6-12 |
|
Ενθυλάκωση Ημιαγωγών |
≥99.0% |
Ιόντα Μετάλλων<10ppm |
4-8 |
|
Υπόστρωμα PCB |
≥98.5% |
Ελεύθερη Φαινόλη<1000ppm |
2-5 |
|
Γενική βιομηχανική ποιότητα |
≥95% |
Ελεύθερη φαινόλη<3000ppm |
1-2 |
1.3 Ευκαιρίες εγχώριας παραγωγής
Προς το παρόν, η εξάρτηση από εισαγωγές υψηλής ποιότητας φαινολικών ρητινών (βαθμός φωτοαντιστάτη, βαθμός ημιαγωγών) φτάνει το 60-80%, με τεράστιο δυναμικό για εγχώρια αντικατάσταση. Η εγχώρια παραγωγή προσφέρει τα ακόλουθα πλεονεκτήματα:
• Πλεονέκτημα κόστους: Το κόστος της τοπικής παραγωγής είναι 30-50% χαμηλότερο από τις εισαγωγές
• Πλεονέκτημα παράδοσης: Δεν απαιτείται μακροχρόνια διεθνής εφοδιαστική, παράδοση εντός 1 εβδομάδας
• Πλεονέκτημα υπηρεσίας: Τοπική τεχνική υποστήριξη, γρήγορη ανταπόκριση στις ανάγκες των πελατών
• Ασφάλεια εφοδιαστικής αλυσίδας: Αποφυγή κινδύνων διακοπής προμήθειας λόγω διεθνών εμπορικών εντάσεων
2.1 Βασικοί Δείκτες Ποιότητας
Η φαινολική ρητίνη υψηλής καθαρότητας πρέπει να πληροί τους ακόλουθους βασικούς δείκτες:
|
Αντικείμενο |
Βαθμίδα φωτοαντιστάτη |
Επίπεδο συσκευασίας ημιαγωγών |
Βαθμίδα PCB |
|
Μοριακό βάρος (Mw ) |
3,000-8,000 |
5,000-12,000 |
8,000-20,000 |
|
Πολυδιασπορά PDI |
1.3-1.8 |
1.5-2.0 |
1.8-2.5 |
|
Σημείο Επιβράδυνσης (℃) |
90-130 |
100-140 |
110-150 |
|
Περιεκτικότητα σε υδροξύλια (%) |
15-25 |
12-20 |
10-18 |
|
Ελεύθερη φαινόλη (ppm) |
<500 |
<1,000 |
❤️<3,000 |
|
Ελεύθερη φορμαλδεΰδη (ppm) |
<200 |
<500 |
<1,000 |
|
Περιεκτικότητα σε Στάχτη(PPM) |
<50 |
<100 |
<300 |
|
Ιόντα Μετάλλων (ppb) |
<10 |
<20 |
<50 |
|
Ιόντα Χλωρίου (ppm) |
<20 |
<50 |
<100 |
|
Χρώμα (Gardner) |
❤️<3 |
<4 |
<5 |
|
Υγρασία(%) |
<0.5 |
<1.0 |
<2.0 |
2.2 Κύριες Προκλήσεις στην Εκκαθάριση
3.1 Μέθοδος 1: Πλύση με νερό + Εξουδετέρωση
【Ροή διεργασίας】 Διάλυμα ρητίνης → Πλύση με ζεστό νερό → Εξουδετέρωση με αλκάλι → Στρωματοποίηση → Αφυδάτωση
|
Πλεονεκτήματα |
περιορισμός |
|
✓Χαμηλό κόστος, απλή λειτουργία |
✗Ποσοστό απομάκρυνσης ελεύθερης φαινόλης < 60% |
|
✓Μπορεί να απομακρύνει ορισμένες υδατοδιαλυτές προσμίξεις |
✗Ανεπαρκής απομάκρυνση ιόντων μετάλλων |
|
✓Κατάλληλο για προϊόντα βιομηχανικής ποιότητας |
✗Παράγει μεγάλη ποσότητα λυμάτων (σημαντική περιβαλλοντική πίεση) |
3.2 Μέθοδος 2: Εκχύλιση με διαλύτη
【Ροή διεργασίας】 Διάλυση ρητίνης σε οργανικό διαλύτη → Προσθήκη φτωχού διαλύτη για καθίζηση → Φιλτράρισμα → Ξήρανση υπό κενό
|
Πλεονεκτήματα |
Περιορισμοί |
|
✓ Μπορεί να αφαιρέσει συστατικά χαμηλού μοριακού βάρους |
✗ Υψηλή κατανάλωση διαλύτη (5-10 φορές τη μάζα της ρητίνης) |
|
✓ Επιτρέπει κάποιο βαθμό προσαρμογής του PDI |
✗ Υψηλό κόστος ανάκτησης διαλύτη |
|
✓ Κατάλληλο για μικρές παρτίδες, προϊόντα υψηλής ποιότητας |
✗ Χαμηλή απόδοση (70-85%) |
3.3 Μέθοδος 3: Συμβατική Απόσταξη με Κενό
【Ροή Διεργασίας】 Τήξη Ρητίνης → Απόσταξη υπό Μειωμένη Πίεση (0,1-1 kPa) → Συλλογή Κλασμάτων
|
Πλεονεκτήματα |
Περιορισμοί: |
|
✓ Απομακρύνει αποτελεσματικά τα ελεύθερα φαινόλες και φορμαλδεΰδη |
✗ Απαιτεί υψηλές θερμοκρασίες (180-250 ℃), οδηγώντας σε εύκολη πολυμερισμό/αποδόμηση της ρητίνης. |
|
✓ Χωρίς κατάλοιπα διαλύτη |
✗ Μεγάλος χρόνος παραμονής (2-6 ώρες), με αποτέλεσμα το σκούρυνσμα του χρώματος. |
|
✓ Ανακυκλώσιμα μονομερή |
✗ Υψηλό ιξώδες, με αποτέλεσμα χαμηλή απόδοση μεταφοράς μάζας. |
3.4 Περίληψη Σύγκρισης Παραδοσιακών Μεθόδων
|
Μέθοδοι: |
Ποσοστό αφαίρεσης ελεύθερης φαινόλης |
Έλεγχος PDI |
Αποδόσεις |
Χρώμα |
Κόστος |
Εφαρμόσιμες Βαθμίδες: |
|
Έκπλυση με νερό + εξουδετέρωση |
50-60% |
✗ |
90-95% |
Διάβρωση |
Χαμηλά |
Βιομηχανική ποιότητα |
|
Εκχύλιση διαλύτη |
70-85% |
✓ |
70-85% |
Βελτίωση |
Υψηλές |
Ηλεκτρονική Κατηγορία |
|
Συμβατική κενής απόσταξης |
80-90% |
✗ |
75-88% |
Σοβαρή επιδείνωση |
Μεσαίο |
Βαθμίδα PCB |
|
Απόσταξη μορίων με βραχύ δρόμο |
95-99% |
✓ Ακριβής |
88-95% |
Εξοχος |
Μεσαίο |
Βαθμίδα φωτοαντιστάτη |
Προφανώς, οι παραδοσιακές μέθοδοι έχουν σημαντικά ελαττώματα όσον αφορά την υψηλή καθαρότητα, το χαμηλό χρώμα και τον ακριβή έλεγχο του μοριακού βάρους, γεγονός που τις καθιστά ανίκανες να πληρούν τις απαιτήσεις των φαινολικών ρητινών για φωτοαντιστάθμιση και εγκλωβισμό ημιαγωγών.
4.1 Βασική Τεχνολογία: Απόσταξη με Βραχύ Δρόμο
Το Σύστημα Μοριακής Απόσταξης Yuanhuai YHCHEM είναι μια ειδική τεχνολογία διαχωρισμού υγρού-υγρού που επιτυγχάνει διαχωρισμό υπό συνθήκες υψηλού κενού και χαμηλής θερμοκρασίας, χρησιμοποιώντας τις διαφορές στο μέσο ελεύθερο δρόμο των μορίων διαφορετικών ουσιών, και είναι ιδιαίτερα κατάλληλη για την καθαροποίηση θερμο-ευαίσθητων, υψηλής ιξώδους και υψηλού σημείου βρασμού υλικών.
4.2 Αρχή Λειτουργίας
|
Βήματα: |
Περιγραφή της διαδικασίας |
Κύριες παράμετροι |
|
① Τροφοδοσία Υλικού |
Το προθερμασμένο διάλυμα ρητίνης εισέρχεται στον εξατμιστή. |
Ρευστότητα: Καλή |
|
② Σχηματισμός μεμβράνης |
Ένας σπάτουλα διασπείρει το υλικό σε λεπτή μεμβράνη. |
Ταχύτητα περιστροφής: 10-300 σ.α.λ. |
|
③ Θέρμανση |
Η επιφάνεια θέρμανσης διατηρείται σε σχετικά χαμηλή θερμοκρασία. |
Πίεση: Πολύ χαμηλότερη από τη συμβατική απόσταξη |
|
④ Ατμοπάρωση |
Ελαφριές συστατικές (χαμηλό σημείο βρασμού) εξατμίζονται και διαφεύγουν. |
Μέση ελεύθερη διαδρομή: >2-5 εκ. |
|
⑤ Μεταφορά μικρής απόστασης |
Τα εξατμισμένα μόρια ταξιδεύουν σε ευθεία γραμμή προς την επιφάνεια συμπύκνωσης. |
Απόσταση: 2-5 εκ., χωρίς συγκρούσεις |
|
⑥ Συμπύκνωση |
Τα ελαφριά συστατικά συμπυκνώνονται στην επιφάνεια συμπύκνωσης. |
Θερμοκρασία: -10~20 ℃ |
|
⑦ Αποχώρηση |
Τα βαριά συστατικά ρέουν προς τα κάτω κατά μήκος της επιφάνειας θέρμανσης. |
Μη εξατμισμένες ουσίες υψηλού μοριακού βάρους |
|
⑧ Συλλογή |
Τα ελαφριά και τα βαριά συστατικά συλλέγονται ξεχωριστά. |
Συνεχής τμηματική λειτουργία |
4.3 Μοναδικά Πλεονεκτήματα για τον Καθαρισμό Ρητινών Φαινολικού
|
Τεχνικά χαρακτηριστικά: |
Σημασία για τις ρητίνες φαινολικού: |
|
Υπερυψηλό κενό |
Η θερμοκρασία βρασμού μειώνεται κατά 80-150 ℃, αποτρέποντας τη θερμική πολυμερισμό/αποδόμηση |
|
Εξαιρετικά μικρός χρόνος παραμονής |
2-30 δευτερόλεπτα, χωρίς εκφύλιση του χρώματος, διατηρώντας το διαφανές κίτρινο χρώμα |
|
Λειτουργία Χαμηλής Θερμοκρασίας |
80-180℃, προστατεύοντας τις ευαίσθητες στη θερμότητα ομάδες υδροξυλίου και τους αιθέριους δεσμούς |
|
Συνεχής τμηματική συλλογή |
Ακριβής διαχωρισμός ολιγομερών, μεσαίων πολυμερών και υψηλών πολυμερών, έλεγχος του PDI |
|
Σχεδιασμός με σμηνόμενο φιλμ |
Ομοιόμορφος σχηματισμός φιλμ υψηλής ιξώδους ρητίνας, υψηλή απόδοση μεταφοράς μάζας |
|
Όλες οι επιφάνειες επαφής με το υλικό κατασκευασμένες από ανοξείδωτο χάλυβα 316L |
Εξαλείφει τη μολυσματικότητα από ιόντα μετάλλων |
(1) Βασική Μονάδα Απόσταξης
|
Συστατικά |
Προδιαγραφές/Υλικά |
Χαρακτηριστικά: |
|
Εμβαδόν εξάτμισης |
0,1-10 m ² |
Προσαρμοστικό, με χωρητικότητα επεξεργασίας 5-500 kg/h |
|
Ξύστρα |
PTFE/316L |
Ταχύτητα περιστροφής 10-300 rpm, δημιουργώντας λεπτό φιλμ 0,1-1 mm |
|
Μέθοδος θέρμανσης |
Θερμόλαδο/Ηλεκτρική θέρμανση |
Ακρίβεια ελέγχου θερμοκρασίας της ±2℃ |
|
Συσσωρευτής |
άξονα από ανοξείδωτο χάλυβα 316L |
Ενσωματωμένος σπειροειδής σωλήνας, -10 έως 20 ℃ |
|
Υλικό |
Όλα από ανοξείδωτο χάλυβα 316L + σφράγιση PTFE |
Ανθεκτικό στη διάβρωση, χαμηλή επιμόλυνση με ιόντα μετάλλου |
(2) Σύστημα κενού
• Συνδυασμός αντλίας Roots + περιστρεφόμενης φτερωτής αντλίας: Τελικό κενό 0,1 Pa
• Μανόμετρο κενού: Μανόμετρο κενού με διάφραγμα χωρητικότητας, ακρίβεια 0,1 Pa
• Ψυχρό παγίδωμα: -80°C, προστασία της αντλίας κενού, ανάκτηση μονομερών
(3) Σύστημα αυτοματισμού ελέγχου
• PLC + Οθόνη αφής: Siemens/Mitsubishi
• Παρακολούθηση σε πραγματικό χρόνο: θερμοκρασία, επίπεδο κενού, ρυθμός τροφοδοσίας, ταχύτητα περιστροφής
• Καταγραφή δεδομένων: Ιστορικές καμπύλες, εντοπισμός παρτίδων
• Προστασία συναγερμού: Υπερθέρμανση, ανωμαλία κενού, αυτόματη απενεργοποίηση λόγω ανωμαλίας στάθμης υγρού
6.1 Πλήρης ροή διαδικασίας

6.2 Βασικές παράμετροι διαδικασίας
Απόσταξη πρώτου σταδίου (Αφαίρεση ελαφρών συστατικών)
|
Παράμετροι: |
Τιμές ρύθμισης: |
Στόχος: |
|
Θερμοκρασία τροφοδοσίας |
60-80℃ |
Για μείωση του ιξώδους, ώστε να διευκολυνθεί η μεταφορά |
|
Θερμοκρασία εξάτμισης |
120-150℃ |
Να εξατμιστεί ο ελεύθερος φαινόλη (σημείο βρασμού 181 ℃) |
|
Επίπεδο κενού |
1-5 Pa |
Να μειωθεί το σημείο βρασμού στους 80-120 ℃ |
|
Ταχύτητα υαλοκαθαριστήρα |
150-250 rpm |
Να δημιουργηθεί ένα ομοιόμορφο λεπτό φιλμ |
|
Ρυθμός τροφοδοσίας |
10-30 kg/h ·m ² |
Χρόνος παραμονής: 5-15 δευτερόλεπτα |
|
Συλλεγμένα συστατικά |
Ελαφριά συστατικά (ελεύθερη φαινόλη, φορμαλδεΰδη, νερό) |
5-15% |
Αποτέλεσμα: Η ελεύθερη φαινόλη μειώνεται από 3000-8000 ppm σε <500 ppm
Δεύτερο στάδιο απόσταξης (Ρύθμιση κατανομής μοριακού βάρους)
|
Παράμετροι: |
Ρυθμίσεις: |
Στόχος: |
|
Θερμοκρασία εξάτμισης |
150-170℃ |
Εξάτμιση ολιγομερών (Mw < 2000) |
|
Επίπεδο κενού |
0,5-2 Pa |
Χαμηλότερο σημείο βρασμού |
|
Ταχύτητα υαλοκαθαριστήρα |
100-200 rpm |
Ισορροπημένη μεταφορά μάζας και χρόνος παραμονής |
|
Ρυθμός τροφοδοσίας |
8-20 kg/h ·m ² |
Χρόνος παραμονής: 10-30 δευτερόλεπτα |
|
Συλλεγμένα συστατικά |
Ελαφριά Συστατικά (Ολιγομερή) |
10-20% |
Αποτέλεσμα: Το PDI μειώθηκε από 2,5-3,5 σε 1,5-2,0
Τριτοβάθμια Απόσταξη (Καθαρισμός)
|
Παράμετροι: |
Ρυθμίσεις: |
Σκοπός: |
|
Θερμοκρασία εξάτμισης |
170-180℃ |
Αφαίρεση καταλυτών και χρωστικών |
|
Επίπεδο κενού |
0,1-1 Pa |
Έντονο κενό |
|
Ταχύτητα υαλοκαθαριστήρα |
80-150 rpm |
Λεπτή διαχωριστική |
|
Ρυθμός τροφοδοσίας |
5-15 kg/h ·m ² |
Πλήρης επαφή |
|
Συλλεγμένα συστατικά |
Ενδιάμεσο απόσταγμα (επιθυμητό προϊόν) |
70-85% |
Αποτέλεσμα: Καθαρότητα >99,0%, μεταλλικά ιόντα (σε συνδυασμό με ανταλλαγή ιόντων) <10 ppb
6.3 Παράδειγμα Ισοζυγίου Υλών
Παράδειγμα βασισμένο σε 100 kg αφανέρωτης ρητίνης:
|
Στάδια Διεργασίας |
Τύπος Υλικού |
Μάζα (kg) |
Αναλογία πρώτων υλών που χρησιμοποιήθηκαν |
Κατανομή Υλών |
|
Διατροφή |
Αφανέρωτη Φαινολική Ρητίνη |
100 |
100% |
Ακατέργαστα Υλικά |
|
Προ-θεραπεία |
Απώλεια Διαλύτη, Κατάλοιπα Φιλτραρίσματος |
2-3 |
2-3% |
Οι διαλύτες είναι ανακυκλώσιμοι |
|
Πρώτη Απόσταξη |
Ελαφριά Συστατικά (Χωρίς Φαινόλη, Φορμαλδεΰδη, κ.λπ.) |
8-12 |
8-12% |
Μπορεί να χρησιμοποιηθεί αποδοτικά |
|
Δεύτερη Απόσταξη |
Ελαφριά Συστατικά (Ολιγομερή) |
10-15 |
10-15% |
Εν μέρει επαναχρησιμοποιήσιμα |
|
Τρίτη Απόσταξη |
Βαριά Συστατικά (Πολυμερή, Προσμίξεις) |
3-5 |
3-5% |
Απορρίπτεται ή υποβαθμίζεται για άλλες χρήσεις |
|
Έξοδος |
Ρητίνη Υψηλής Καθαρότητας με Βάση τη Φαινόλη |
70-80 |
70-80% |
Προϊόντα ηλεκτρονικής ποιότητας/ποιότητας φωτολιθογραφίας |
【Συνολική Απόδοση】70-80% 【Βελτίωση Καθαρότητας】95% → 99%+
7.1 Σύγκριση με Παραδοσιακές Μεθόδους
|
Δείκτες: |
Παραδοσιακή Απόσταξη σε Κενό |
Εκχύλιση διαλύτη |
Υ HChem Μοριακή απόσταξη |
|
Θερμοκρασία λειτουργίας |
180-250℃ |
Θερμοκρασία Δωματίου - 60 ℃ |
80-180℃ |
|
Χρόνος Παραμονής |
2-6 ώρες |
Αρκετές ώρες |
10-60 δευτερόλεπτα |
|
Επίπεδο κενού |
0,1-1 kPa |
Ατμοσφαιρική πίεση |
0,1-10 Pa |
|
Ποσοστό αφαίρεσης ελεύθερης φαινόλης |
80-90% |
70-85% |
95-99% |
|
Έλεγχος PDI |
✗ |
✓ |
Ακριβές |
|
Αλλαγή χρώματος |
Επιδείνωση: 3-5 επίπεδα |
Βελτιώθηκε κατά 1-2 επίπεδα |
Χωρίς διάβρωση |
|
Αποδόσεις |
75-88% |
70-85% |
88-95% |
|
Κατανάλωση διαλύτη |
Κανένα |
5-10 φορές |
Κανένα |
|
Κατανάλωση ενέργειας (kWh/τόνο) |
800-1200 |
300-500 (συμπεριλαμβανομένης της ανάκτησης) |
400-600 |
|
Επιστρώσεις στον εξοπλισμό |
Ακριβός |
Κανένα |
Ελαφρώς |
|
Έλεγχος μεταλλικών ιόντων |
Μετριοπαθής |
Κακή |
Άριστο (Όλα 316L) |
|
Συνεχής παραγωγή |
Δύσκολο |
Δύσκολο |
Υποστηρίζεται |
7.2 Περίληψη βασικών πλεονεκτημάτων
✓ Υπερυψηλή καθαρότητα - Ελεύθερο από φαινόλη <500 ppm, ελεύθερο από φορμαλδεΰδη <200 ppm, πληροί τις απαιτήσεις βαθμίδας φωτοαντιστάσεως
✓ Ακριβής έλεγχος μοριακού βάρους - PDI ρυθμιζόμενο στο εύρος 1,3-1,8, προσαρμόσιμο σε διαφορετικές εφαρμογές
✓ Διατήρηση χρώματος - Ανοιχτό κίτρινο διαφανές, χωρίς θερμική υποβάθμιση
✓ Υψηλή απόδοση - 88-95%, 10-20% υψηλότερη από την εκχύλιση με διαλύτη
✓ Φιλικό προς το περιβάλλον, μηδενικές εκπομπές - Χωρίς λύματα, χωρίς απόβλητα διαλύτη, σύμφωνα με τις περιβαλλοντικές πολιτικές
✓ Συνεχής παραγωγή - Υψηλός βαθμός αυτοματοποίησης, χαμηλό κόστος εργασίας
✓ Μεγάλη διάρκεια ζωής εξοπλισμού - Ανοξείδωτος χάλυβας 316L, ανθεκτικός στη διάβρωση, εύκολος στον καθαρισμό
Καθαρισμός ρητίνης φαινολικού βαθμίδας φωτοαντιστάσεως
Πελάτης: Εταιρεία ηλεκτρονικών χημικών (περιοχή Pearl River Delta)
Πρώτη ύλη: Φαινολική ρητίνη βιομηχανικής ποιότητας (καθαρότητα 95%, 5000 ppm ελεύθερη φαινόλη)
Στόχος: Ποιότητα φωτοαντιστάστασης (καθαρότητα ≥99,5%, ελεύθερη φαινόλη <500 ppm, PDI 1,5-1,8)
Παράμετροι Διαδικασίας:
• Εξοπλισμός: YMD-150
• Τρισδιάστατη απόσταξη, θερμοκρασίες 120/150/170℃
• Επίπεδο κενού: 5/2/0,5 Pa
• Συνολικός χρόνος επεξεργασίας: Περίπου 40 δευτερόλεπτα
【Σύγκριση αποτελέσματος καθαρισμού】
|
Ειδικές προδιαγραφές |
πρώτη ύλη |
Μετά από μία απόσταξη |
Μετά από δύο στάδια απόσταξης |
Τελικό Προϊόν |
Στόχος |
|
Καθαρότητα (%) |
95.0 |
97.5 |
98.8 |
99.6 |
≥99.5 |
|
Ελεύθερη φαινόλη (ppm) |
5000 |
800 |
350 |
<200 |
<500 |
|
Ελεύθερη Φορμαλδεΰδη (ppm) |
800 |
200 |
80 |
<100 |
<200 |
|
PDI |
2.8 |
2.6 |
1.9 |
1.6 |
1.5-1.8 |
|
Σημείο Μαλάνωσης (°C) |
105 |
108 |
112 |
115 |
110-120 |
|
Χρώμα (Gardner) |
5 |
4 |
3 |
<3 |
<3 |
|
Περιεκτικότητα σε Τέφρα (ppm) |
300 |
150 |
80 |
<50 |
<50 |
|
Ιόντα Μετάλλων (ppb) |
80 |
50 |
20 |
<10 |
<10 |
Οικονομικά Οφέλη: Απόδοση: 92%
Κόστος και Έσοδα ανά Τόνο:
• Κόστος Πρώτων Υλών: 20.000 CNY/τόνο
• Τιμή Πώλησης Καθαρού Προϊόντος: 80.000 CNY/τόνο
• Μικτό Κέρδος ανά Τόνο: 60.000 CNY
Ετήσια Παραγωγή 200 Τόνων – Οφέλη:
• Ετήσια Αύξηση Κέρδους: 12 εκατομμύρια CNY
Παράρτημα A Πρότυπα δοκιμών για φαινολικές ρητίνες βαθμού φωτοαντιστάθμισης
|
Αντικείμενα Δοκιμής: |
Πρότυπες μέθοδοι: |
Όργανα και Εξοπλισμός: |
|
Μοριακό βάρος |
GPC |
Waters GPC, τυπική πολυστυρόλη |
|
Περιεκτικότητα σε υδροξύλιο |
Χημική ογκομέτρηση |
Ποτενσιομετρικός τιτλοδότης |
|
Σημείο Μαλακώσεως |
GB/T 4507 |
Όργανο προσδιορισμού σημείου μαλακώσεως με δακτύλιο και σφαίρα |
|
Δωρεάν φαινόλη |
GC-FID |
Χρωματογράφος Αερίων |
|
Ελεύθερη φορμαλδεΰδη |
HPLC |
Υγρό χρωματογράφο υψηλής απόδοσης |
|
Μεταλλικά ιόντα |
ICP-MS |
Φασματομέτρο μάζας με επαγωγικά συζευγμένο πλάσμα |
|
Περιεκτικότητα σε τέφρα |
GB/T 9345 |
Κλίβανος καύσεως, 550 ℃ καύση |
|
Χρώμα |
Μέθοδος Gardner |
Χρωματομετρικός |
|
Περιεχόμενο Υδάτων |
Karl Fischer |
Τιτλοδότης υγρασίας Karl Fischer |
Παράρτημα B: Συχνές Ερωτήσεις (FAQ)
Ε1: Μπορεί η μοριακή απόσταξη να χρησιμοποιηθεί για την επεξεργασία στερεών φαινολικών ρητινών;
Α: Ναι. Πρέπει να διαλυθεί σε διαλύτη (όπως τολουόλιο, αιθανόλη) ή να θερμανθεί σε τήγμα (συνήθως 80-120°C) πριν την τροφοδοσία.
Ε2: Απαιτεί το εξοπλισμό ειδικές αντιεκρηκτικές προδιαγραφές;
Α: Εάν χρησιμοποιούνται εύφλεκτα διαλύτη (όπως τολουόλιο, αιθανόλη), πρέπει να γίνει κατάταξη σε αντιεκρηκτικές ζώνες (π.χ. Ζώνη 2) και να εγκατασταθούν αντιεκρηκτικοί κινητήρες και όργανα.
Ε3: Μπορούν να επεξεργαστούν θερμοσκληραίνουσες φαινολικές ρητίνες;
Α: Συνιστούμε την επεξεργασία θερμοπλαστικών ρητινών (Novolac). Οι θερμοσκληραίνουσες (Resol) ρητίνες δεν είναι κατάλληλες για μοριακή απόσταξη λόγω της χαμηλής ρευστότητάς τους που οφείλεται σε μερική διασύνδεση. Αν είναι απαραίτητη η επεξεργασία, πρέπει να γίνει στην υγρή φάση πριν τη σκλήρυνση.
Ε4: Πώς να αποθηκεύσετε την καθαρισμένη ρητίνη;
A: Συνιστάται να αποθηκεύετε το προϊόν σε κλειστό δοχείο σε δροσερό, στεγνό μέρος για να αποφευχθεί η απορρόφηση υγρασίας και η οξείδωση. Για ρητίνες βαθμού φωτοαντιστάσεως, συνιστάται η αποθήκευση υπό προστασία αζώτου, και η διάρκεια ζωής μπορεί να φτάσει τους 12 μήνες.
Ε5: Πόσο διαρκεί ο καθαρισμός του εξοπλισμού;
A: Περίπου 2-4 ώρες. Η διαδικασία περιλαμβάνει την κυκλοφορία διαλυτών όπως το τολουόλιο ή η ακετόνη, και η αποτελεσματικότητα ενισχύεται με θέρμανση στους 80-100℃. Συνιστάται να πραγματοποιείται ένας πλήρης καθαρισμός μετά από κάθε 10-20 παρτίδες.
Ε6: Απαιτήσεις χώρου και ύψους για τον εξοπλισμό;
A: Το YHMD-150 καταλαμβάνει περίπου 15 m², το ύψος του εξοπλισμού είναι περίπου 3,5 μέτρα, απαιτεί ύψος δαπέδου εργοστασίου ≥ 4,5 μέτρα. Εάν το ύψος του δαπέδου είναι ανεπαρκές, μπορεί να προσαρμοστεί οριζόντια δομή.
Ε7: Μπορούν να επεξεργαστούν ταυτόχρονα πολλά διαφορετικά είδη ρητίνης;
Α: Ναι, αλλά απαιτείται καθαρισμός μεταξύ διαφορετικών παρτίδων για να αποφευχθεί η διασταύρωση μόλυνση. Προτείνεται να καθιερωθεί μια τυποποιημένη διαδικασία αλλαγής προϊόντος (SOP) για να εξασφαλιστεί η συνέπεια από παρτίδα σε παρτίδα.